xrf分析儀是通過X射線管產(chǎn)生的X射線作為激光源，激發(fā)光源激發(fā)樣品產(chǎn)生X熒光射線。根據(jù)熒光X射線的波長和強度來確定樣品的化學(xué)組成。作為一種質(zhì)量檢測手段，xrf分析儀在我國各行各業(yè)應(yīng)用越來越廣泛。研究xrf分析儀在分析過程中的誤差，提高儀器的分析準(zhǔn)確度成為重要的課題。
X射線熒光分析過程中產(chǎn)生誤差的原因主要有操作方面、儀器方面、以及試樣本身等三方面因素。
一、在xrf分析儀分析中操作方面帶來誤差的因素：
1、在xrf分析儀分析制樣過程中，粉磨時未設(shè)定好粉磨時間和壓力，達(dá)不到要求的粉磨粒度或相應(yīng)的料度分布。實驗表明當(dāng)粉磨時間短于試驗設(shè)定時間，測定結(jié)果就會產(chǎn)生波動。同時，粉磨時未按規(guī)定加適量助磨劑或所加助磨劑中含有所要分析的元素，都會給測定結(jié)果帶來較大影響。磨頭和磨盤里留有前期樣品或被其它物質(zhì)污染），結(jié)果也會產(chǎn)生誤差。
2、xrf分析儀分析制樣過程中壓片時，未設(shè)定好時間和壓力，壓力效果不好或壓片時樣品布入不均勻而產(chǎn)生了樣品的堆積分布不均，或壓片板（壓片頭）不潔凈（或上面粘有前期樣品）等，都會影響分析結(jié)果。
3、當(dāng)樣品制好后，制樣未保護(hù)好，制樣裝入試樣盒的位置不當(dāng)，結(jié)果給分析帶來誤差。制樣未保護(hù)好有兩層含義：
①、未保護(hù)好制樣光潔度。如用手指摸分析面、或用手指甲劃、用口吹、用濕毛巾擦分析面等；
②制樣在空氣中放置太久，使分析面與空氣中物質(zhì)發(fā)生了物理化學(xué)變化。制樣裝盒位置不當(dāng)，把測樣片裝倒了或測樣片表面與試樣盒表面成一傾斜角等，都會影響到射線管與分析面的距離，從而產(chǎn)生誤差。
4、在xrf分析儀分析中，由于分析面上的樣品灰未除掉，時間長了會影響到儀器真空度；或由于操作者粗心，分析程序選錯，如測生料時用上測熟料的分析曲線或用了測石灰石的曲線，顯然結(jié)果不正確。
二、xrf分析儀儀器方面的誤差因素：
1、壓片板（或壓片頭）不光潔，導(dǎo)致分析面不光滑，從而影響測量結(jié)果。
2、光路真空度不合適，分光晶體、濾光片選擇不佳，使各種射線產(chǎn)生干擾，影響分析。
3、X射線管電壓、電流不穩(wěn)定，從而產(chǎn)生結(jié)果波動。
4、隨著時間的延長，X光管內(nèi)部元件尺寸位置變化引起初級X射線強度的變化，或X射線管陽極出現(xiàn)斑痕，靶元素在窗口沉積，給分析結(jié)果帶來誤差。
5、溫度的變化，引起分光晶體晶面間距變化，從而影響分光效率。正比計數(shù)管高壓漂移，溫度變化引起管內(nèi)氣體成分變化，影響放大倍數(shù)。
6、電子電路的漂移，計數(shù)的統(tǒng)計誤差，檢測過程的時間損失引入的計數(shù)誤差等。
7、氣體的壓力、氮氣、甲烷氣體的流量、溫度等輻射通道條件的變化，都會影響光路中氣體對X射線的吸收。因此，氣瓶的減壓閥一旦調(diào)好，不要隨意再動，特別是更換新氣時，一定要嘗試著多次調(diào)氣壓，否則，由于氣流、氣壓不穩(wěn)，使結(jié)果產(chǎn)生誤差。
三、xrf分析儀試樣本身的誤差因素：
1、試樣易磨性。有的試樣易磨性較差，對測定構(gòu)成影響。
2、試樣成分。有的試樣基本組成成分與標(biāo)準(zhǔn)試樣組成成分不一致，也會影響測定結(jié)果。
3、基體效應(yīng)?；w中其它元素對分析元素的影響，包括吸收和增強效應(yīng)，吸收效應(yīng)直接影響對分析元素的激發(fā)和分析元素的探測強度。增強效應(yīng)使分析元素特征輻射增強。
4、不均勻性效應(yīng)。X射線強度與顆粒大小有關(guān)，大顆粒吸收大，小顆粒吸收小，這是試樣粒度的影響。
5、譜線干擾。各譜線系中譜線產(chǎn)生重疊、干擾，還有來自不同衍射級次的衍射線之間干擾。
四、xrf分析儀分析避免誤差的措施：
1、應(yīng)將樣品磨細(xì)、壓實以減少試樣的不均勻性。
2、選擇無干擾的譜線、降低電壓至于擾元素激發(fā)電壓以下，選擇適當(dāng)分光晶體、計數(shù)管、準(zhǔn)直器或調(diào)整脈沖高度分析器、提高分辯本領(lǐng)，在分析晶體和探測器之間放置濾光片，濾去或減弱干擾譜線。
3、嚴(yán)格按儀器設(shè)備管理辦法安裝、調(diào)試好儀器設(shè)備，避免儀器誤差。
4、嚴(yán)格按照操作規(guī)程認(rèn)真操作，避免人為的操作誤差。
